光刻機的對準系統(tǒng)的精度，對光刻機的芯片曝光有很大的影響。
目前國內(nèi)的對準系統(tǒng)研究的精度，勉強可以應(yīng)用要1.5微米的制造工藝上。
不過，要特別注明的一點就是，在歐美日，此時已經(jīng)實現(xiàn)了光刻機上的自動對焦，而國內(nèi)只能是手動對準。
別人的光刻機，單位時間能曝光兩百多塊晶圓片，而國產(chǎn)的只能曝光十幾塊。
這意味著我們自家生產(chǎn)的，只能在實驗室里用用，無法投入到商業(yè)應(yīng)用當...
光刻機的對準系統(tǒng)的精度，對光刻機的芯片曝光有很大的影響。
目前國內(nèi)的對準系統(tǒng)研究的精度，勉強可以應(yīng)用要1.5微米的制造工藝上。
不過，要特別注明的一點就是，在歐美日，此時已經(jīng)實現(xiàn)了光刻機上的自動對焦，而國內(nèi)只能是手動對準。
別人的光刻機，單位時間能曝光兩百多塊晶圓片，而國產(chǎn)的只能曝光十幾塊。
這意味著我們自家生產(chǎn)的，只能在實驗室里用用，無法投入到商業(yè)應(yīng)用當...