王岸然很清楚，光刻機想在短時間取得突破，可能性幾乎為零。
浸入式光刻機技術(shù)也是渺茫，雙工臺的難度等級甚至比光刻機還要難。
可以預(yù)見的是，依靠先進設(shè)備提升工藝幾乎不可能。
王岸然現(xiàn)在要做的，就是在現(xiàn)有的設(shè)備條件下，如何提升制造工藝。
這并不是不可能的，多重曝光，對準(zhǔn)雙重成像技術(shù)SADP都能有效的提升工藝水平。
當(dāng)然王岸然的目標(biāo)不僅僅如此，F(xiàn)inFET...
王岸然很清楚，光刻機想在短時間取得突破，可能性幾乎為零。
浸入式光刻機技術(shù)也是渺茫，雙工臺的難度等級甚至比光刻機還要難。
可以預(yù)見的是，依靠先進設(shè)備提升工藝幾乎不可能。
王岸然現(xiàn)在要做的，就是在現(xiàn)有的設(shè)備條件下，如何提升制造工藝。
這并不是不可能的，多重曝光，對準(zhǔn)雙重成像技術(shù)SADP都能有效的提升工藝水平。
當(dāng)然王岸然的目標(biāo)不僅僅如此，F(xiàn)inFET...