光刻機霸主阿斯麥封神之路
現(xiàn)在，5nm制程芯片作為目前可量產(chǎn)的最先進芯片，將是頂級手機的標配，也是摩爾定律真正的捍衛(wèi)者。年內(nèi)將推出的華為Mate 40采用的麒麟1020芯片、蘋果iPhone 12搭載的A14仿生芯片不出意外，都會采用5nm制程。
然而，臺積電能吃下蘋果、華為的5nm訂單，背后還少不了一家荷蘭廠商的存在：芯片制造要想突破10nm以下節(jié)點，必須要用到EUV（極紫外線）光刻技術(shù)，而EUV光刻機只有荷蘭公司阿斯麥（ASML）能造。不論是5nm量產(chǎn)賽道第一名臺積電，還是第二名三星，想造出產(chǎn)品，就只能先乖乖向阿斯麥訂貨。
作為全球5nm產(chǎn)線不可或缺的狠角色，阿斯麥到底是一家什么樣的公司？
我們不妨先理解“光刻”這項技術(shù)的重要性。如果把芯片比作刻版畫。芯片生產(chǎn)的過程就是在硅襯底這張“紙”上，先涂上一層名為光刻膠的“油墨”，再用光線作“筆”，在硅襯底上“拓”出需要的圖案，然后用化學物質(zhì)做“刻刀”，把圖案雕刻出來。
其中，以光線為“筆”、拓印圖案這一步被稱為光刻。在芯片制造幾百道工序里，光刻是芯片生產(chǎn)中最重要的步驟之一。圖案線條的粗細程度直接影響后續(xù)的雕刻步驟。目前市場上主流的光刻技術(shù)是DUV（深紫外線）技術(shù)，最先進的則是EUV技術(shù)。
完成這一步需要用到的設(shè)備——光刻機，一臺售價從數(shù)千萬美元高至過億美元。要知道，美國最先進的第五代戰(zhàn)機F-35閃電II式的售價還不到8000萬美元。
放眼全球，光刻機市場幾乎被3家廠商瓜分：荷蘭的阿斯麥（ASML）、RB的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。
在這3家中，阿斯麥又是當之無愧的一哥。據(jù)中銀國際報告，阿斯麥全球市場市占率高達89%！其余兩家的份額分別是8%和3%，加起來僅有11%。在EUV光刻機市場中，阿斯麥的市占率則是100%。
要指出的是，阿斯麥并非生來就含著金湯匙。阿斯麥成立于1984年，入局光刻機市場晚于尼康（1917年成立，1980年發(fā)售其首款半導(dǎo)體光刻機）和佳能（1937年成立，1970年推出RB首臺半導(dǎo)體光刻機）。成立之初，阿斯麥只有31名員工，還曾面臨資金鏈斷裂的窘境。
36年間，這家?guī)捉飘a(chǎn)的小公司是怎樣成長為光刻機一哥的？又是如何在十多年里占據(jù)第一寶座屹立不倒的？今天，智東西就來復(fù)盤這家荷蘭光刻機之星的逆襲之路。
更為重要的一點，在美國狙擊華為芯片供應(yīng)的組合拳里，阿斯麥間接或直接地成為一顆關(guān)鍵棋子，美國人憑什么限制阿斯麥的生意，背后又有怎樣的淵源？
一、光刻機市場的傳說，全球5nm產(chǎn)線的唯一選擇
在郁金香國度荷蘭的南部，坐落著一個居民人數(shù)20余萬的市鎮(zhèn)，艾恩德霍芬，阿斯麥（Advanced Semiconductor Material Lithography，直譯：先進半導(dǎo)體材料光刻技術(shù)）總部就位于此。
阿斯麥是一家采用“無工廠模式”的光刻設(shè)備生產(chǎn)商，主要產(chǎn)品就是光刻機，還提供服務(wù)于光刻系統(tǒng)的計量和檢測設(shè)備、管理系統(tǒng)等。
翻開全球芯片廠商的光刻機訂貨單，其中絕大多數(shù)都發(fā)給了阿斯麥。以2019年為例，阿斯麥共出貨229臺光刻機，凈銷售額為118.2億歐元，凈利潤為25.2億歐元。相比之下，尼康出貨46臺，佳能出貨84臺。
除了出貨量占優(yōu)，阿斯麥（ASML）也代表著全球最頂尖的光刻技術(shù)。在阿斯麥2019年賣出的229臺光刻機中，有26臺是當今最高端的EUV（極紫外線）光刻機。而在EUV光刻市場，阿斯麥是唯一的玩家。
EUV光刻機采用13.5nm波長的光源，是突破10nm芯片制程節(jié)點必不可少的工具。也就是說，就算DUV（深紫外線）光刻機能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒有阿斯麥的EUV光刻機，芯片巨頭臺積電、三星、英特爾的5nm產(chǎn)線就無法投產(chǎn)。
時間邁進2020，光刻機市場三分的格局中，阿斯麥已穩(wěn)居第一10多年。在“光刻機一哥”光環(huán)的背后，阿斯麥又有怎樣的故事？
智東西從技術(shù)路線選擇、先進技術(shù)攻關(guān)、資金支持、研發(fā)投入等方面入手，還原出這個故事真實、立體的脈絡(luò)。
二、與臺積電鬼才相互成就，21世紀阿斯麥冉冉升起
羅馬不是一天建成的，阿斯麥的成功也絕非一蹴而就。今日風頭無兩的光刻機市場一哥背后，是一個卑微的開始和一段曲折的往事。
故事要從20世紀80年代講起，那時候距離摩爾定律被正式提出（1975年）不到10年，增加芯片晶體管數(shù)目還不是讓全球半導(dǎo)體學者擠破頭的課題。相應(yīng)地，對光刻機光源波長的要求較低。當時的光刻機采用干式微影技術(shù)，簡言之，光源發(fā)光，光線在涂有光刻膠的硅基底上“畫”就完了。
比如，1980年尼康推出的可商用步進式重復(fù)式光刻機（Stepper），光源波長為1微米。連芯片廠家英特爾也自己設(shè)了個光刻機部門，用買來的零件組裝光刻機。
通俗來說，步進式重復(fù)光刻機的工作原理是使涂有光刻膠的硅片與掩膜板對準并聚焦，通過一次性投影，在晶圓片上刻畫電路。
在這種背景下，荷蘭電子產(chǎn)品公司飛利浦在實驗室鼓搗出了步進式掃描光刻技術(shù)的雛型，但拿不準這項技術(shù)的商業(yè)價值。思前想后，它決定拉人入伙，讓合作者繼續(xù)研發(fā)，這樣既有人分攤成本，也給了自己觀望的機會。
步進式掃描光刻技術(shù)的原理是，光線透過掩膜板上的狹縫照射，晶圓與掩膜板相對移動。完成當前掃描后，晶圓由工作臺承載，步進至下一步掃描位置，進行重復(fù)曝光。整個過程經(jīng)過重復(fù)步進、多次掃描曝光。
在飛利浦的設(shè)想里，理想的合伙人當然是技術(shù)先進、實力雄厚的美國大廠，如IBM、GCA之流。但在美國走了一圈后，飛利浦意識到了現(xiàn)實的骨感：各大廠商紛紛表示拒絕。
但是，并非所有人都不看好飛利浦的光刻項目，就在飛利浦碰壁之際，荷蘭小公司ASMI（ASM International，直譯為ASM國際）的老板Arthur Del Prado跑來，自薦要接下飛利浦的光刻項目。
ASM International創(chuàng)立于1964年，是一家半導(dǎo)體設(shè)備代理商，對制造光刻機并無經(jīng)驗。因此，飛利浦猶豫了1年的時間。最終，1984年，飛利浦選擇“屈就”，同意與ASMI公司各自出資210萬美元，合資成立阿斯麥，由這才開啟了阿斯麥的故事。
阿斯麥首任CEO為Gjalt Smit，任職時間為1984～1988年。據(jù)稱，由于阿斯麥成立初期知名度較低，Gjalt Smit曾在未經(jīng)授權(quán)的情況下在阿斯麥招聘廣告中使用飛利浦的標志。
2013年至今，阿斯麥總裁兼CEO由Peter Wennink擔任。Peter Wennink早在1999年就加入了阿斯麥，曾擔任過執(zhí)行副總裁、首席財務(wù)官等職。在加入阿斯麥之前，Peter就職于全球四大會計師事務(wù)所之一的德勤會計師事務(wù)所。
其實，在與飛利浦合資成立阿斯麥之前約10年的1975年，ASMI就曾在香港開設(shè)辦公室。最初，ASMI香港辦公室只負責銷售，隨著時間推移，該辦公室發(fā)展出了生產(chǎn)能力。1988年，ASMI在香港辦公室的基礎(chǔ)上成立了新公司ASMPT（ASM PACIFIC Technology，直譯為ASM太平洋技術(shù)）。到今天，ASMPT已成長為全球最大的半導(dǎo)體組裝和封裝技術(shù)供應(yīng)商之一。
作為站在阿斯麥、ASMI、ASMPT背后的操盤手，Arthur Del Prado成為一代業(yè)界傳奇，被譽為“歐洲半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)之父”。2016年，這位傳奇人物以85歲高齡逝世，但與他淵源頗深的三家半導(dǎo)體公司仍在創(chuàng)造新故事。Arthur的長子Chuck Del Prado，于2008年接替Arthur繼任為ASMI CEO，并于2019年退休。ASMI現(xiàn)任CEO是Benjamin Loh。ASMPT現(xiàn)任CEO是Robin Ng。
回到阿斯麥的故事，飛利浦同意出資210萬美元成立阿斯麥，但拒絕提供更多資金和辦公場地。成立之初的阿斯麥只有31名員工，由于沒有辦公室，這31名員工就窩在飛利浦大廈外的簡易木板房里辦公。當時，飛利浦絕不會想到，這個幾乎被當作“棄子”的項目和退而求其次選擇的小公司，孕育出的是能把尼康拉下馬的光刻機新星。
如前所說，20世紀80年代還是光刻機的技術(shù)紅利期。在干式微影技術(shù)的技術(shù)路線下，阿斯麥成立的第一年就造出了步進式掃描光刻機PAS 2000。但是，技術(shù)的紅利期很快就會過去，之后發(fā)生的一切會造就光刻機市場的新格局。
進入21世紀，為了延續(xù)摩爾定律，人們改進了晶體管架構(gòu)方式，但光刻機光源波長卡在了193nm上。這造成的后果是光刻“畫”出的線條不夠細致，阻礙晶體管架構(gòu)的實現(xiàn)。要解決這個問題，最直接的方式就是把光源波長縮短，比如尼康、SVG等廠商試圖采用157nm波長的光線。
實踐中，實現(xiàn)157nm波長的光刻機并不容易。首先，157nm波長的光線極易被193nm光刻機使用的鏡片吸收；其次，光刻膠也要重新研發(fā)；另外，相比于193nm波長，157nm波長進步不到25%，回報率較低。但在當時，這似乎是唯一的辦法。
到了2002年，時任臺積電研發(fā)副經(jīng)理林本堅提出：為什么非要改變波長？在鏡頭和光刻膠之間加一層光線折射率更好的介質(zhì)不就行了？那么什么介質(zhì)能增加光的折射率呢？林本堅說，水就可以。與干式光刻技術(shù)相對，林本堅的技術(shù)方案被稱為浸沒式光刻技術(shù)。經(jīng)過水的折射，光線波長可以由193nm變?yōu)?32nm。
時間再往回推15年（1987年），林本堅就職于IBM，那時他就有了浸沒式光刻技術(shù)的想法。2002年芯片制程卡在65nm之際，林本堅看到了浸沒式光刻技術(shù)的機會。為了解決技術(shù)難題、消除廠商疑慮，林本堅花費半年時間帶領(lǐng)團隊發(fā)表3篇論文。
當時，業(yè)界質(zhì)疑水作為一種清潔劑，會把鏡頭上的臟東西洗出來，還有人擔憂水中的氣泡、光線明暗等因素會影響折射效果。根據(jù)林本堅團隊的研究，他們提出了一種曝光機，可以保持水的潔凈度和溫度，使水不起氣泡。雖然這種曝光機并未在實際中被采用，但林本堅的研究證明了技術(shù)上的難題是可以被解決的。
他還親自奔赴美國、RB、德國、荷蘭等地，向光刻機廠商介紹浸沒式光刻的想法。但是，有能力進行研發(fā)的大廠普遍不買賬。
個中原因也不難理解，自20世紀60年代起，玩家入局光刻機市場，在干式光刻技術(shù)上投入了大量財力、人力、物力，好不容易踏出一條可行的技術(shù)路線。如果按照林本堅“加水”的想法，各位前輩就得“一夜回到解放前”，從技術(shù)到設(shè)備重新探索。很少有人舍得這么高的沉沒成本。但是，“很少有人”不代表“沒有人”。
奔波到荷蘭后，林本堅終于聽到了一個好消息：阿斯麥愿做這第一個吃螃蟹的勇士。2003年10月份，ASML和臺積電研發(fā)出首臺浸沒式光刻設(shè)備——TWINSCAN XT：1150i。2004年，阿斯麥的浸沒式光刻機改進成熟。同年，尼康宣布了157nm的干式光刻機和電子束投射產(chǎn)品樣機。
但是，一面是改進成熟的132nm波長新技術(shù)，一面是157nm波長的樣機，勝負不言而喻。
數(shù)據(jù)顯示，在2000年之前的16年里，ASML占據(jù)的市場份額不足10%。2000年后，阿斯麥市場份額不斷攀升。到2007年，阿斯麥市場份額已經(jīng)超過尼康，達到約60%。
當命運之神把浸沒式光刻微影的機遇擺放到阿斯麥、尼康等玩家面前，只有阿斯麥勇敢地伸出手，而尼康則是成也干式微影、敗也干式微影。在全球光刻機市場這一回合的較量中，阿斯麥選擇了正確的技術(shù)路線，從而贏得了后來居上的機會。
三、集合美國、歐洲科研力量，點亮EUV科技樹
如果說推出浸沒式光刻機讓阿斯麥領(lǐng)先尼康一步，那么突破EUV光刻技術(shù)則讓它成為了名副其實的光刻機一哥。2010年至今，EUV光刻市場中只有阿斯麥一位玩家。
突破10nm節(jié)點能夠帶來的經(jīng)濟效益不必贅述，在眾多玩家中，為什么只有阿斯麥掌握了EUV光刻機的核心技術(shù)？實際上，這與它集合了美國、歐洲的頂級科研力量有關(guān)。這段故事還要從1997年講起。
1997年，英特爾認識到跨越193nm波長的困難，渴望通過EUV來另辟蹊徑。為了能從其他玩家處借力，英特爾說服了美國政府，二者一起組建了一個名為“EUV LLC（The Extreme Ultraviolet Limited Liability Company，極紫外線有限責任公司）”的組織。EUV LLC里可謂是群英薈萃，商業(yè)力量有摩托羅拉、AMD、英特爾等，還匯集了美國三大國家實驗室。
EUV LLC里，美國成員構(gòu)成了主體。在對外國成員的選擇上，英特爾和白宮產(chǎn)生了分歧。英特爾看中阿斯麥和尼康在光刻機領(lǐng)域的經(jīng)驗，想拉他們?nèi)牖?。但白宮認為如此重要的先進技術(shù)研發(fā)不該邀“外人”入局。
此時，阿斯麥顯示出了驚人的前瞻能力，它向美國表示：我愿意出資在美國建工廠和研發(fā)中心，并保證55%的原材料都從美國采購，只求你們研究EUV一定要帶我玩。
如此誠意讓美國難以拒絕，就這樣，阿斯麥成為EUV LLC里唯二的兩家非美國公司之一，另一家是德國公司英飛凌。
反觀尼康，這一次則完全是吃了國籍的虧。1998年發(fā)表的文件《合作研發(fā)協(xié)議和半導(dǎo)體技術(shù)：涉及DOE-Intel CRADA的事宜》，寫明了尼康被排除在EUV LLC外的終極原因：“……有人擔心尼康會成功將技術(shù)轉(zhuǎn)移到RB，從而消滅美國的光刻工業(yè)。”
1997年到～2003年，阿斯麥和世界頂級的半導(dǎo)體領(lǐng)域玩家聚集在EUV LLC，用了6年時間回答一個問題：EUV有可能實現(xiàn)嗎？他們發(fā)現(xiàn)答案是肯定的。至此，EUV LLC使命完成，在2003年就地解散，其中各個成員踏上獨自研發(fā)之路。
其實，其他歐洲、RB、韓國的玩家也曾探索過EUV光刻技術(shù)。但是，他們的實力始終無法與匯集了美國頂級科研實力的EUV LLC相比，這意味著阿斯麥在EUV研發(fā)之路上占得先機。國際光電工程學會（SPIE）官網(wǎng)寫出了EUV LLC的重要性：“如果不是EUV LLC對技術(shù)的形成和追求，EUV光刻技術(shù)就不會成為IC制造領(lǐng)域的未來競爭者?！?p> 6年時間里，EUV LLC證明了用極紫外線作為光源造光刻機是可行的，但卻沒指出一條明路。到了2005年，EUV光刻機還是連個影子都沒有，但巨額的研發(fā)資金、難以跨越的技術(shù)瓶頸已經(jīng)足以讓大多數(shù)玩家望而卻步。但是，阿斯麥還是不肯死心，并且決定要牽頭歐洲的EUV研發(fā)項目。如果說在EUV LLC中，阿斯麥是蜷縮在角落里等待被其他大玩家“帶飛”，那這一次，阿斯麥則是要自己做領(lǐng)頭雁。
研發(fā)過程面臨的困難無非集中在資金和技術(shù)兩方面，阿斯麥把它們逐個擊破。缺錢？那就去找，阿斯麥從歐盟第六框架研發(fā)計劃中拉來2325萬歐元經(jīng)費。缺技術(shù)？阿斯麥集合3所大學、10個研究所、15個公司聯(lián)合開展了“More Moore”項目，著力攻堅。
終于，2010年，阿斯麥出貨了首臺EUV光刻機。這臺光刻機型號為NXE：3100，被交付給臺積電，用于進行研發(fā)。
至此，在EUV市場，阿斯麥已經(jīng)做到了人無我有，接下來的問題就是產(chǎn)品的迭代和進化。2013年，阿斯麥收購了光源提供商Cymer，為公司量產(chǎn)EUV設(shè)備打基礎(chǔ)。經(jīng)過幾次升級，阿斯麥在2016年推出首臺可量產(chǎn)的EUV光刻機NXE：3400B并獲得訂單。NXE：3400B售價約為1.2億美元，從2017年第二季度起開始出貨。直到今天，產(chǎn)品的迭代還在繼續(xù)。根據(jù)阿斯麥的信息，EXE：5000系列光刻機樣機最快在2021年問世。
從1997年到2010年，13年的艱難求索，終于讓阿斯麥攻克了EUV的技術(shù)高地。辛勤付出終有回報，目前，阿斯麥仍是唯一掌握EUV光刻技術(shù)的廠商。
四、沒錢？邀臺積電、英特爾、三星入股，拉回53億歐元
根據(jù)公開信息，一臺EUV光刻機售價約為1.2億美元，一臺DUV光刻機的售價也要數(shù)千萬美元。在高額售價的背后，是前期研發(fā)階段巨量的資金投入。要支撐對光刻技術(shù)的研發(fā)，阿斯麥必須找到一條可持續(xù)的“財路”，否則就可能陷入困境。
事實上，阿斯麥也的確經(jīng)歷過“財政危機”。1988年，阿斯麥進軍臺灣市場，還未來得及在新的市場競爭中喘口氣，老東家ASMI就因無法獲得預(yù)期內(nèi)的回報比作出撤資決定。同時，由于當時全球電子行業(yè)市場不樂觀，飛利浦也宣布了一項成本削減計劃。內(nèi)外夾擊之下，阿斯麥幾近破產(chǎn)。好在危機時刻，時任阿斯麥CEO Gjalt Smit聯(lián)系了飛利浦董事會成員Henk Bodt，后者說服了飛利浦董事會，為阿斯麥拉來一筆約1億美元的“救命錢”。
這筆資金幫助阿斯麥在進軍臺灣市場的初期站穩(wěn)了腳。隨后幾年，阿斯麥憑借步進式掃描光刻機扭虧為盈，并于1995年3月15日在阿姆斯特丹和紐約證券交易所成功上市，上市首日市值為約1.25億美元。
為了能夠獲得充足的資金支持，2012年，阿斯麥提出一項“客戶聯(lián)合投資計劃”（CCIP，Customer Co-Investment Program），簡單來說，就是接受客戶的注資，客戶成為股東的同時擁有優(yōu)先訂貨權(quán)。這無疑是一個雙贏的舉措：把阿斯麥的研發(fā)資金壓力轉(zhuǎn)移出去，讓客戶為先進光刻技術(shù)的研發(fā)買單，這樣不僅使阿斯麥無后顧之憂地進行研發(fā)，也保證了客戶對先進光刻技術(shù)的優(yōu)先使用權(quán)。
2012年，芯片制造行業(yè)3大龍頭英特爾、臺積電、三星都推出了22nm芯片產(chǎn)品。CCIP計劃一經(jīng)推出，這3家公司紛紛響應(yīng)。根據(jù)協(xié)議，英特爾斥資41億美元收購荷蘭芯片設(shè)備制造商阿斯麥公司的15%股權(quán)，另出資10億美元，支持阿斯麥加快開發(fā)成本高昂的芯片制造科技。臺積電投資8.38億歐元，獲取阿斯麥公司約5%股權(quán)。三星斥資5.03億歐元購得3%股權(quán)，并額外注資2.75億歐元合作研發(fā)新技術(shù)。
最終，阿斯麥以23%的股權(quán)共籌得53億歐元資金。要知道，2012年全年，阿斯麥的凈銷售額才約為47.3億歐元。
五、長盛不衰的秘訣：大力搞研發(fā)的傳統(tǒng)
在科技圈，研發(fā)、創(chuàng)新能力就是生命力。華為5G、芯片技術(shù)為什么強？任正非曾在接受采訪時表示，2020年華為將把約200億美元（約合人民幣1420億元）花在研發(fā)上。而在研發(fā)方面，阿斯麥與華為一樣“瘋狂”。
早在2002年，阿斯麥就敢向浸沒式光刻技術(shù)押注。到了今天，大力投資搞技術(shù)研發(fā)已經(jīng)成為阿斯麥的傳統(tǒng)。
根據(jù)2019年度財報，阿斯麥全年投入了20億歐元用于技術(shù)研發(fā)，占到凈銷售額（118.2億歐元）的16.9%。相比之下，2019年尼康在光刻系統(tǒng)上的投資為3.98億日元，占到光刻系統(tǒng)營收（2397.28億日元）的約0.17%。
2007年開始，“時年”13歲的阿斯麥開始以領(lǐng)先的姿態(tài)傲然于光刻機市場，至今仍然如此。列出阿斯麥近些年的研發(fā)投入，或能解釋它這么多年來屹立不倒的原因。
另外，在專利網(wǎng)站Patentscope上的搜索結(jié)果顯示，阿斯麥申請的專利數(shù)目已經(jīng)達到14444項。阿斯麥雖然是一家商業(yè)公司，但支撐它走得更遠的，不是對金錢的追求，而是對技術(shù)的長遠投資。
結(jié)語：36年成就光刻機傳奇
回顧過去36年，阿斯麥從一個蜷縮在木板房中的小公司成長為一代光刻機巨擘，其中原因少不了歷史的機遇，如林本堅適時提出了浸沒式光刻技術(shù)的想法。但是，更具決定性意義的是阿斯麥準確的前瞻和果斷的選擇，比如，在21世紀初，阿斯麥放棄干式微影，轉(zhuǎn)投浸沒式光刻技術(shù)；再比如，早在1997年，阿斯麥以自身妥協(xié)換來EUV LLC的入場券。對于商業(yè)與技術(shù)相互促進的關(guān)系，阿斯麥還有著深刻的理解，多年來對技術(shù)研發(fā)的大力投入，成為它屹立不倒的重要原因。手握頂尖的技術(shù)，阿斯麥還獲得了客戶的支持，從而在全球光刻機市場中走得更遠。
以阿斯麥這36年的歷程為鑒，對比我國。1977年，我國第一臺光刻機誕生，加工晶片直徑為75毫米。今天，國產(chǎn)光刻機制造商有上海微電子、中科院光電所等，最先進的設(shè)備推進至22nm節(jié)點，而國際最先進工藝已突破5nm節(jié)點。國產(chǎn)光刻機無疑還有很長的路要走。
要解決這一問題，技術(shù)攻關(guān)當然是必不可少的。另外，借力國外成熟產(chǎn)品或可幫助芯片制造商實現(xiàn)突破。2018年，我國芯片公司中芯國際花費約1.2億美元，向阿斯麥訂購了一臺EUV光刻機。由于種種原因，目前，這臺光刻機還未成功交付。我們期待它能夠盡快落地中國，助力我國的芯片事業(yè)再上一個臺階。中國有市場、有人才，也不缺恒心與毅力，相信我國光刻機事業(yè)會有光明的未來。